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Curso: Grafología para procesos de Reclutamiento y Selección de Personal: Introducción a la  grafología y protocolo de filtro

Curso: Grafología para procesos de Reclutamiento y Selección de Personal: Introducción a la grafología y protocolo de filtro

El programa busca entregar herramientas útiles y actualizadas acerca del uso de la grafología en el proceso de Selección de Personal.

¿A quién está dirigido?

Profesionales y Técnicos que trabajen en RRHH. Estudiantes de último de carrera afines.

Infografía

Al terminar el Curso

Al terminar las 8 horas del programa, recibirás la Certificación del curso Grafología para procesos de Reclutamiento y Selección de Personal: Introducción a la grafología y protocolo de filtroacreditado por Adipa.

Temario

Día 1: Miércoles 5 de Octubre (Presionar para ver horarios)

Horarios:

  • 18.00 a 22.00 hrs. Santiago de Chile.
  • 16.00 a 20.00 hrs. Lima, Quito y Bogotá.

Temas a tratar:

  • Ejercicio inicial.
  • Técnicas proyectivas, de lo general a lo particular del sujeto.
  • Uso de la grafología en procesos de Reclutamiento y Selección.
  • Historia de la grafología, escuelas e investigación.
  • Validez de la muestra gráfica.
  • Introducción al Dinamografismo en contexto de letras y en la firma.
  • Ejercicio 2.

Día 2: Jueves 6 de Octubre (Presionar para ver horarios)

Horarios:

  • 18.00 a 22.00 hrs. Santiago de Chile.
  • 16.00 a 20.00 hrs. Lima, Quito y Bogotá.

Temas a tratar:

  • Introducción al Sistema Neuroescritural de Aguilera, integración de variables trazado y no trazado.
  • Ejercicio 3.
  • Protocolo grafonómico: Identificación del Perfil Antisocial.
  • Lapsus Cálami.
  • Contingencia del uso y resultados.
  • Caso práctico.
  • Evaluación.

Equipo docente

Ps. Mg. Úrsula Vera

Ps. Mg. Úrsula Vera

Magíster en Psi. Social Aplicada, USACH.

Cupos disponibles

Quedan días para cerrar el curso

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Descripción

Temario

1 “Introducción al Autismo: Del síndrome nuclear al continuo y espectro”

Ejecutivo a cargo

Contactar a ejecutivo

Docentes

Rodrigo Ormazabal
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